Οι μηχανές ASML είναι γιγάντιες εγκαταστάσεις μήκους δεκάδων μέτρων, ικανές να παράγουν μαζικά τσιπ χρησιμοποιώντας διαδικασίες 3-7 nm. Χρησιμοποιούν πλάσμα λέιζερ (LPP), το οποίο ψεκάζει σταγονίδια κασσίτερου και απαιτεί τεράστιους καθρέφτες συλλεκτών - εξαρτήματα που η Κίνα δεν είναι ακόμη σε θέση να παράγει. Η νέα κινεζική εξέλιξη παράγει ακτινοβολία EUV διαφορετικά: ένα λέιζερ femtosecond κατευθύνεται στο αργό, δημιουργώντας φως μέσω της λεγόμενης υψηλής αρμονικής παραγωγής (HHG). Χάρη σε αυτό το σύστημα, δεν χρειάζονται ούτε σταγόνες κασσίτερου ούτε ογκώδεις καθρέφτες.

Αυτός ο σχεδιασμός είναι πολύ απλούστερος, πιο συμπαγής και φθηνότερος. Το μήκος κύματος μπορεί να ρυθμιστεί από 1 έως 200 nm. Ταυτόχρονα, η κατανάλωση ενέργειας του εργοστασίου είναι ελάχιστη - περίπου 1 μικροβάτ ανά παλμό, που είναι περίπου 200 εκατομμύρια φορές χαμηλότερη από την παραγωγική ικανότητα EUV της ASML. Φυσικά, αυτό αποκλείει τη μαζική παραγωγή τσιπ 14 νανομέτρων, αλλά είναι κατάλληλο για μεμονωμένα δείγματα και εργαστηριακές εργασίες.

Ένα βασικό πλεονέκτημα είναι η υψηλή φωτεινότητα σε περιορισμένη περιοχή, η οποία καθιστά το σύστημα κατάλληλο για την επιθεώρηση φωτομασκών, την ανάλυση δομών τρανζίστορ και την έκθεση μικροσκοπικών πειραματικών πλακών. Το νέο κινέζικο μηχάνημα χωράει σε ένα γραφείο και κοστίζει μόνο ένα κλάσμα του κόστους μιας βιομηχανικής εγκατάστασης ASML.

Η ανάπτυξη της τεχνολογίας μπορεί να βοηθήσει την Κίνα να βελτιώσει την ποιότητα της παραγωγής τσιπ 14nm και 28nm, καθώς και να ενισχύσει την ανεξαρτησία της χώρας στον τομέα του εξοπλισμού ημιαγωγών.